高溫高壓型導波雷達液位計導波雷達發出的高頻微波脈沖沿著探測組件（鋼纜或鋼棒）傳播，遇到被測介質，由于介電常數突變，引起反射，一部分脈沖能量被反射回來。發射脈沖與反射脈沖的時間間隔與到被測介質的距離成正比。
容器中存在兩種不同介質，當上面一層的介質介電常數較小，而下面的介質介電常數較大時，高頻微波脈沖沿著探測組件傳播遇到上層介質時，由于其介電常數較小，因而有極少的能量被這一層介面反射，而大部分能量穿透上層介質繼續向下傳播，遇到兩層的介面時，由于下層介質的介電常數較大，因而會有較大的能量被反射回來。因而導波雷達是可以測量兩種不同介質的介面，其測量條件是上層介質不導電或其介電常數比下層介質介電常數小10以上。

高溫高壓型導波雷達液位計特  點
由于采用了*微波處理器和*的EchoDiscovery回波處理技術，導波雷達物位計可以應用于各種復雜工況。
多種過程連接方式及探測組件的型式，使得CDGW系列導波雷達物位計適用于各種復雜工況。如：高溫、高壓及小介電常數介質等。
采用脈沖工作方式，導波雷達物位計發射功率極低，可安裝于各種金屬、非金屬容器內，對人體及環境均無傷害。應用:液體測量,高溫高壓工況,復雜過程條件
zui大量程： 纜：30m/棒：6m
測量精度：±10mm
過程連接：G1?A/G2A/1?NPT
探測組件材料：不銹鋼316L/陶瓷
鋼纜/棒直徑：￠6mm/￠10mm
過程溫度：-200～400℃
過程壓力：真空～400bar
信號輸出：兩線制4～20mA/HART